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美國Ionpure EDI模塊在運(yùn)行過程中，樹脂分為交換區(qū)和新生區(qū)，在運(yùn)行過程中，雖然樹脂不斷進(jìn)行離子交換，但電流連續(xù)不斷地使離子再生，從而形成了一種動(dòng)態(tài)平衡；美國Ionpure EDI模塊內(nèi)將始終保持一定空間的新生區(qū)；這樣，美國 Ionpure EDI模塊內(nèi)的樹脂也就不再需要化學(xué)藥品的再生，   且其產(chǎn)水品質(zhì)也得到了高品質(zhì)的保證。

美國Ionpure EDI模塊由陰/陽離子交換膜，混床樹脂，淡/濃水室和陰/陽電極構(gòu)成。

美國Ionpure EDI模塊技術(shù)將電滲析和離子交換技術(shù)完美的結(jié)合在一起。 模塊上海純超環(huán)保滿足客戶的不同需求。上海原裝模塊哪家好

啟動(dòng)清洗泵運(yùn)行50分鐘，運(yùn)行流量和壓力為正常運(yùn)行狀態(tài)，**小流量可以為EDI正常運(yùn)行時(shí)流量的一半。檢查清洗過程管道無泄漏。

   排掉清洗水箱內(nèi)消毒液，并用RO水沖洗EDI出水至電導(dǎo)率降至100μs/cm以下。

4．堿洗

   1）配制5%NaCL+1.2%NaOH溶液：將1200LRO水沖入清洗水箱中，加入60KgNaCL和14.4KgNaOH，并攪拌均勻使其完全溶解（可啟動(dòng)清洗泵循環(huán)攪拌）。

   2）啟動(dòng)清洗泵，流量大約45T/h,壓力大約為0.2MPa,循環(huán)50分鐘，停止清洗泵。

   3）沖洗排掉清洗水箱內(nèi)清洗液，用RO水沖洗EDI，如清洗后封存，不要沖太徹底。 上海原裝模塊哪家好模塊上海純超環(huán)保服務(wù)放心可靠。

離子進(jìn)入濃水室后，由于陽離子無法穿過陰離子交換膜，因此其將被截留在濃水室，同樣，陰離子無法穿過陽離子交換膜，被截留在濃水室，這樣陰陽離子將隨濃水流被排出模塊；此外，由于進(jìn)水中的離子被不斷地去除，那么淡水的純度將不斷提高，在由模塊出來的時(shí)候，其純度可以達(dá)到接近理論純水的水平。

c.  水分子在電的作用下被不斷地離解為H+和OH- 和OH- 將分別使得被消耗的陽/陰樹脂連續(xù)再生。

過程a和過程c是樹脂的消耗和再生的兩個(gè)相反過程，這兩者會(huì)在模塊內(nèi)部形成一個(gè)動(dòng)態(tài)平衡。

淡水可從模塊底部進(jìn)入淡水室，從頂部出來；淡水也可從模塊頂部進(jìn)入模塊，則從模塊底部出來；極水的進(jìn)水與淡水進(jìn)水同為一水流，只是分別進(jìn)入不同的室（極水室和濃水室），并從模塊頂部排出。

3、超濾系統(tǒng)控制余氯等氧化劑不當(dāng)，進(jìn)EDI氧化劑超量，導(dǎo)致EDI樹脂破碎，堵塞產(chǎn)水通道，水量下降。

  4、采用不當(dāng)?shù)那逑春拖荆苯訉?dǎo)致EDI樹脂破碎，進(jìn)出水壓差增大，造成產(chǎn)水水質(zhì)和水量全部下降。

  5、西門子EDI模塊系統(tǒng)手動(dòng)運(yùn)行時(shí)，在缺水狀態(tài)下加電，直接導(dǎo)致膜片和樹脂的發(fā)熱碳化，清洗無效，無法使用。

  6、西門子EDI模塊進(jìn)水**保安濾器，或安裝時(shí)沒有徹底清洗管道和水箱，導(dǎo)致異物堵塞EDI通道，進(jìn)出水壓差增大，造成產(chǎn)水水量嚴(yán)重下降，清洗無效。

  7、出廠時(shí)產(chǎn)品不合格，使用一段時(shí)間不明原因的漏水。

  8、電流電壓超出額定值或人為誤操作。 模塊上海純超環(huán)保詢問報(bào)價(jià)。

EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式

 ?直通逆流（低及高pH值都可）再循環(huán)（氧化劑）

 ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)

步驟

 注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進(jìn)行。

 ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

 ?步驟 2.

 a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)

或

 b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)

或

 c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)

 ?按照說明書配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液（閱讀上面所提的清洗化學(xué)品規(guī)范要求）?？傮w來說，濃水為已用水按1：100的比例稀釋過。

 ? (僅按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)

 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

 ?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線環(huán)中直到產(chǎn)水電導(dǎo)率>0.02 MOhm.cm 或等 同于進(jìn)水(至少為 2 L (0.5 gal))

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　　 　　·EDI啟動(dòng)時(shí)，給水泵應(yīng)該緩慢升壓，從零到穩(wěn)定的運(yùn)行壓力需要1-2分鐘以上，這樣做可防止水錘導(dǎo)致的嚴(yán)重?fù)p壞。在全部供水之前請先緩慢將模塊和系統(tǒng)中的空氣排盡。請勿對模塊過度加壓。 　　·確保電流開關(guān)及變送器設(shè)置正確并且能夠正常工作。 　　·確保建立了三條水流，并且所有的**互鎖都經(jīng)過證明：極水排放流，淡水產(chǎn)水流以及濃水排放流。 　　·核實(shí)沒有任何形式的氯或氧化劑進(jìn)入E-Cell?模塊。進(jìn)水必須符合進(jìn)水水質(zhì)要求。 　　·若在進(jìn)水硬度>1ppm(以碳酸鈣計(jì))或者二氧化硅>1ppm，或者其他進(jìn)水水質(zhì)指標(biāo)沒有達(dá)到進(jìn)水水質(zhì)要求，GEEDI模塊將可能被損壞，除非采取特殊防護(hù)措施。如果進(jìn)水硬度或者二氧化硅超標(biāo)，定期的酸洗和對RO產(chǎn)水進(jìn)行軟化是必需的。上海原裝模塊哪家好

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