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廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司 光刻膠|錫膏|錫球|錫片
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廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司
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關(guān)于我們

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司坐落于松山湖經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū),注冊資本 2000 萬元,是一家專注于半導(dǎo)體材料研發(fā)、生產(chǎn)和銷售的技術(shù)企業(yè)和廣東省專精特新企業(yè)及廣東省創(chuàng)新型中小企業(yè),我們的產(chǎn)品遠(yuǎn)銷全球,與許多世界 500 強(qiáng)企業(yè)和電子加工企業(yè)建立了長期合作關(guān)系。 公司產(chǎn)品主要有:芯片光刻膠,納米壓印光刻膠,LCD 光刻膠,半導(dǎo)體錫膏,焊片,靶材等材料,公司是一個擁有 23 年研發(fā)與生產(chǎn)的綜合性企業(yè)。公司按照 ISO9001:2008 質(zhì)量體系標(biāo)準(zhǔn),嚴(yán)格監(jiān)控生產(chǎn)制程,生產(chǎn)環(huán)境嚴(yán)格執(zhí)行 8S 現(xiàn)場管理,所有生產(chǎn)材料均采用美國、德國與日本及其他**進(jìn)口的高質(zhì)量材料,確保客戶能使用到超高質(zhì)量及穩(wěn)定的產(chǎn)品。 我們將繼續(xù)秉承精湛的技術(shù)和專業(yè)的服務(wù),致力于為客戶提供解決方案,共同推動半導(dǎo)體材料的發(fā)展。

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司公司簡介

福建正性光刻膠多少錢 歡迎咨詢 吉田半導(dǎo)體供應(yīng)

2025-06-01 00:26:59

關(guān)鍵工藝流程
 涂布與前烘:
? 旋涂或噴涂負(fù)性膠,厚度可達(dá)1-100μm(遠(yuǎn)厚于正性膠),前烘溫度60-90℃,去除溶劑并增強(qiáng)附著力。
 曝光:
? 光源以**汞燈G線(436nm)**為主,適用于≥1μm線寬,曝光能量較高(約200-500mJ/cm?),需注意掩膜版與膠膜的貼合精度。
 顯影:
? 使用有機(jī)溶劑顯影液(如二甲苯、醋酸丁酯),未曝光的未交聯(lián)膠膜溶解,曝光的交聯(lián)膠膜保留。
 后處理:
? 后烘(Post-Bake):加熱(100-150℃)進(jìn)一步固化交聯(lián)結(jié)構(gòu),提升耐干法蝕刻或濕法腐蝕的能力。
政策支持:500億加碼產(chǎn)業(yè)鏈。福建正性光刻膠多少錢

作為中國半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的企業(yè),吉田半導(dǎo)體材料有限公司始終以自研自產(chǎn)為戰(zhàn)略,通過 23 年技術(shù)沉淀與持續(xù)創(chuàng)新,成功突破多項 “卡脖子” 技術(shù),構(gòu)建起從原材料到成品的全鏈條國產(chǎn)化能力。其自主研發(fā)的光刻膠產(chǎn)品已覆蓋芯片制造、顯示面板、精密電子等領(lǐng)域,為國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主化提供關(guān)鍵支撐。 吉田半導(dǎo)體依托自主研發(fā)中心與產(chǎn)學(xué)研合作,在光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)多項技術(shù)突破: YK-300 正性光刻膠:分辨率達(dá) 0.35μm,線寬粗糙度(LWR)≤3nm,適用于 45nm 及以上制程,良率達(dá) 98% 以上,成本較進(jìn)口產(chǎn)品降低 40%,已通過中芯國際量產(chǎn)驗證。 SU-3 負(fù)性光刻膠:支持 3μm 厚膜加工,抗深蝕刻速率 > 500nm/min,成功應(yīng)用于高通 5G 基帶芯片封裝,良率提升至 98.5%。 JT-2000 納米壓印光刻膠:突破 250℃耐高溫極限,圖形保真度 > 95%,性能對標(biāo)德國 MicroResist 系列,已應(yīng)用于國產(chǎn) EUV 光刻機(jī)前道工藝。 廈門低溫光刻膠廠家半導(dǎo)體材料選吉田,歐盟認(rèn)證,支持定制化解決方案!

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,主要涵蓋厚板、負(fù)性、正性、納米壓印及光刻膠等類別,以滿足不同領(lǐng)域的需求。

UV 納米壓印光刻膠:JT-2000 型號,耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿,耐高溫達(dá) 250°C,長期可靠性高,粘接強(qiáng)度高,重量 100g。適用于需要在特殊化學(xué)和高溫環(huán)境下進(jìn)行納米壓印光刻的工藝,如半導(dǎo)體器件制造。

其他光刻膠

水油光刻膠 JT-2001:屬于水油兩用光刻膠,具有工廠研發(fā)、可定制、使用、品質(zhì)保障、性能穩(wěn)定的特點,重量 1L。 水油光刻膠 SR-3308:同樣為水油兩用光刻膠,重量 5L,具備上述通用優(yōu)勢,應(yīng)用場景。


以 15% 年研發(fā)投入為驅(qū)動,吉田半導(dǎo)體加速 EUV 光刻膠與木基材料研發(fā),**占行業(yè)制高點。布局下一代光刻技術(shù)。
面對極紫外光刻技術(shù)挑戰(zhàn),吉田半導(dǎo)體與中科院合作開發(fā)化學(xué)放大型 EUV 光刻膠,在感光效率(<10mJ/cm?)和耐蝕性(>80%)指標(biāo)上取得階段性進(jìn)展。同時,公司前瞻性布局木基光刻膠研發(fā),對標(biāo)日本王子控股技術(shù),探索生物基材料在半導(dǎo)體封裝中的應(yīng)用。這些技術(shù)儲備為 7nm 及以下制程提供支撐,助力中國在下一代光刻技術(shù)中占據(jù)重要地位。光刻膠的關(guān)鍵應(yīng)用領(lǐng)域。

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司的產(chǎn)品體系豐富且功能強(qiáng)大。

在光刻膠領(lǐng)域,芯片光刻膠為芯片制造中的精細(xì)光刻環(huán)節(jié)提供關(guān)鍵支持,確保芯片線路的精細(xì)刻畫;

納米壓印光刻膠適用于微納加工,助力制造超精細(xì)的微納結(jié)構(gòu);

LCD 光刻膠則滿足液晶顯示面板生產(chǎn)過程中的光刻需求,保障面板成像質(zhì)量。

在電子焊接方面,半導(dǎo)體錫膏與焊片性能,能實現(xiàn)可靠的電氣連接,廣泛應(yīng)用于各類電子設(shè)備組裝。

靶材產(chǎn)品在材料濺射沉積工藝中發(fā)揮關(guān)鍵作用,通過精細(xì)控制材料沉積,為半導(dǎo)體器件制造提供高質(zhì)量的薄膜材料。憑借出色品質(zhì),遠(yuǎn)銷全球,深受眾多世界 500 強(qiáng)企業(yè)和電子加工企業(yè)青睞 。 無鹵無鉛錫膏廠家吉田,RoHS 認(rèn)證,為新能源領(lǐng)域提供服務(wù)!陜西高溫光刻膠多少錢

嚴(yán)苛光刻膠標(biāo)準(zhǔn)品質(zhì),吉田半導(dǎo)體綠色制造創(chuàng)新趨勢。福建正性光刻膠多少錢

 吉田半導(dǎo)體納米壓印光刻膠 JT-2000:國產(chǎn)技術(shù)突破耐高溫極限 自主研發(fā) JT-2000 納米壓印光刻膠耐受 250℃高溫,為國產(chǎn)納米器件制造提供關(guān)鍵材料。吉田半導(dǎo)體 JT-2000 納米壓印光刻膠采用國產(chǎn)交聯(lián)樹脂,在 250℃高溫下仍保持圖形保真度 > 95%。產(chǎn)品采用國產(chǎn)原材料與全自動化工藝,其高粘接強(qiáng)度與耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿特性,適用于光學(xué)元件、傳感器等精密器件。產(chǎn)品已通過國內(nèi)科研機(jī)構(gòu)驗證,應(yīng)用于國產(chǎn) EUV 光刻機(jī)前道工藝,幫助客戶實現(xiàn)納米結(jié)構(gòu)加工自主化。 福建正性光刻膠多少錢

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