江蘇2PP無(wú)掩膜光刻微納加工系統(tǒng) 納糯三維科技供應(yīng) 納糯三維科技供應(yīng)

Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造專業(yè)人才，一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)和無(wú)掩模光刻系統(tǒng)，以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案。在全球頂端大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中，有超過(guò)2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案。作為基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的微納加工領(lǐng)域市場(chǎng)帶領(lǐng)者，Nanoscribe在全球30多個(gè)**擁有各科領(lǐng)域的客戶群體?；?PP微納加工技術(shù)方面的專業(yè)知識(shí)，Nanoscribe為頂端科學(xué)研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強(qiáng)大的技術(shù)支持，并推動(dòng)生物打印、微流體、微納光學(xué)、微機(jī)械、生物醫(yī)學(xué)工程和集成光子學(xué)技術(shù)等不同領(lǐng)域的發(fā)展。“我們非常期待加入CELLINK集團(tuán)，共同探索雙光子聚合技術(shù)在未來(lái)所帶來(lái)的更大機(jī)遇”NanoscribeCEOMartinHermatschweiler說(shuō)道。

Nanoscribe的PhotonicProfessional設(shè)備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）。突出特點(diǎn)是不再像常規(guī)的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進(jìn)行直寫，而是在孔型支架內(nèi)。通過(guò)調(diào)整直寫激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量，從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術(shù)（通過(guò)激光束曝光控制的亞表面折射率）可以在保證亞微米級(jí)別的空間分辨率同時(shí)，對(duì)折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過(guò)0.3。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力，科研人員打印了眾多令人矚目的光學(xué)組件，例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡（如圖示）。通過(guò)色散透鏡聚焦的光因波長(zhǎng)不同焦點(diǎn)位置也不盡相同。